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T 工业技术 (11)



    文献类型

  1. 图书 (11)

    主题

  1. 电子束光刻 (9)
  2. 半导体工艺 (4)
  3. 集成电路工艺 (3)
  4. 半导体工艺-电子束光刻 (2)
  5. 电子束光刻-半导体工艺 (2)
  6. 光学投影系统 (1)
  7. 制版(半导体) (1)
  8. 汇编 (1)
  9. 电刻 (1)
  10. 科技资料 (1)
  11. 设备 (1)
  12. 超大规模集成电路 (1)

    著者

  1. (美)布鲁尔(brewer,g.r.)著 (1)
  2. brewer (1)
  3. 《半导体器件制造技术丛书》编写组编 (1)
  4. 上海无线电十七厂 (1)
  5. 上海无线电十七厂编 (1)
  6. 中国科学院化学研究所《光致抗蚀剂》组编著 (1)
  7. 中国科学院化学研究所光致抗蚀剂组 (1)
  8. 刘俊标 (1)
  9. 刘俊标, 薛虹, 顾文琪著 (1)
  10. 半导体光刻制版技术交流会资料汇编组编 (1)
  11. 半导体器件制造技术丛书编写组 (1)
  12. 吴克华 (1)
  13. 吴克华著 (1)
  14. 姚汉民 (1)
  15. 姚汉民，胡松，邢廷文著 (1)
  16. 布鲁尔 (1)
  17. 李艳秋 (1)
  18. 李艳秋[等]著 (1)
  19. 杨树芬 (1)
  20. 杨树芬译 (1)

    出版日期

  1. 2024 (1)
  2. 2021 (1)
  3. 2006 (1)
  4. 2004 (1)
  5. 1986 (1)
  6. 1985 (1)
  7. 1977 (1)
  8. 1972 (3)
  9. 1971 (1)

    馆藏地点

  1. 德清书库中文图书保存本（预约查询） (5)
  2. 曙光路馆中文图书保存本查阅室 (2)
  3. 曙光路馆中文自科图书借阅室 (1)
  4. 之江馆综合借阅区 (1)
  5. 浙江省科协 (1)

    图书馆

  1. 文旅融合分馆 (1)
  2. 浙江图书馆 (7)

    语言种类

  1. 汉语 (11)

    可借

  1. 可借 (7)
  2. 不可借 (4)

    新到时间

  1. 过去7天 (0)
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  6. 超过180天 (7)
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1.
封面仅供参考
著者: 李艳秋
出版社: 科学出版社   出版日期: 2024
文献类型: 图书 , 索书号: TN405.98/452/2024
2.
封面仅供参考
计算光刻与版图优化 已借7次.
著者: 韦亚一
出版社: 电子工业出版社   出版日期: 2021
文献类型: 图书 , 索书号: TN405.98/511/2021
3.
封面仅供参考
出版社: 北京工业大学出版社   出版日期: 2006
文献类型: 图书 , 索书号: TH761.8/437/2006
4.
封面仅供参考
出版社: 北京工业大学出版社   出版日期: 2004
文献类型: 图书 , 索书号: TN470.598/024/2004
5.
封面仅供参考
出版社: 国防工业出版社   出版日期: 1986
文献类型: 图书 , 索书号: TN305.7/422
6.
封面仅供参考
著者: 吴克华
出版社: 宇航出版社   出版日期: 1985
文献类型: 图书 , 索书号: TN405.7/642
7.
封面仅供参考
出版社: 科学出版社   出版日期: 1977
文献类型: 图书 , 索书号: TN305.7/529
8.
封面仅供参考
出版社: 武汉无线电元件三厂   出版日期: 1972
文献类型: 图书 , 索书号:
9.
封面仅供参考
出版社: 编者   出版日期: 1972
文献类型: 图书 , 索书号:
10.
封面仅供参考
出版社: 国防工业出版社   出版日期: 1972
文献类型: 图书 , 索书号:
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