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1.	封面仅供参考	电子束扫描曝光技术订购中著者: 吴克华出版社: 宇航出版社出版日期: 1985 文献类型: 图书 , 索书号: TN405.7/642 在馆信息电子资源随书附盘图书信息概览图书目录试读信息内容简介著者简介
2.	封面仅供参考	光致抗蚀剂：光刻胶订购中著者: 中国科学院化学研究所光致抗蚀剂组出版社: 科学出版社出版日期: 1977 文献类型: 图书 , 索书号: TN305.7/529 在馆信息电子资源随书附盘图书信息概览图书目录试读信息内容简介著者简介
3.	封面仅供参考	光学投影曝光微纳加工技术订购中著者: 姚汉民胡松邢廷文出版社: 北京工业大学出版社出版日期: 2006 文献类型: 图书 , 索书号: TH761.8/437/2006 在馆信息电子资源随书附盘图书信息概览图书目录试读信息内容简介著者简介
4.	封面仅供参考	光刻订购中著者: 上海无线电十七厂出版社: 上海人民出版社出版日期: 1971 文献类型: 图书 , 索书号: 在馆信息电子资源随书附盘图书信息概览图书目录试读信息内容简介著者简介
5.	封面仅供参考	半导体光刻制版技术交流会资料汇编订购中著者: 半导体光刻制版技术交流会资料汇编组编出版社: 编者出版日期: 1972 文献类型: 图书 , 索书号: 在馆信息电子资源随书附盘图书信息概览图书目录试读信息内容简介著者简介
6.	封面仅供参考	微纳加工中的精密工件台技术订购中著者: 刘俊标薛虹顾文琪出版社: 北京工业大学出版社出版日期: 2004 文献类型: 图书 , 索书号: TN470.598/024/2004 在馆信息电子资源随书附盘图书信息概览图书目录试读信息内容简介著者简介
7.	封面仅供参考	电子束刻蚀技术订购中著者: G.R. 布鲁尔 G.R. Brewer 出版社: 国防工业出版社出版日期: 1986 文献类型: 图书 , 索书号: TN305.7/422 在馆信息电子资源随书附盘图书信息概览图书目录试读信息内容简介著者简介
8.	封面仅供参考	光刻掩膜版的制造订购中著者: 武汉无线电元件三厂出版社: 武汉无线电元件三厂出版日期: 1972 文献类型: 图书 , 索书号: 在馆信息电子资源随书附盘图书信息概览图书目录试读信息内容简介著者简介
9.	封面仅供参考	先进计算光刻订购中著者: 李艳秋出版社: 科学出版社出版日期: 2024 文献类型: 图书 , 索书号: TN405.98/452/2024 在馆信息电子资源随书附盘图书信息概览图书目录试读信息内容简介著者简介
10.	封面仅供参考	光刻技术订购中著者: 半导体器件制造技术丛书编写组出版社: 国防工业出版社出版日期: 1972 文献类型: 图书 , 索书号: 在馆信息电子资源随书附盘图书信息概览图书目录试读信息内容简介著者简介