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封面仅供参考
纳米级CMOS VLSI电路：可制造性设计：design for manufacturability |
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题名/责任者:
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纳米级CMOS VLSI电路 [ 专著] / (美)桑迪普·昆杜(Sandip Kundu)，(美)阿斯温·斯雷德哈(Aswin Sreedhar)著 , 潘彪，康旺，蒋林君译 |
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ISBN:
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978-7-111-78270-4 价格： CNY79.00 |
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语种:
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汉语 |
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载体形态:
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216页 : 图 ; 24cm |
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出版发行:
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北京 : 机械工业出版社, 2025 |
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内容提要:
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本书首先介绍了CMOS VLSI设计的趋势，并简要介绍了可制造性设计和可靠性设计的基本概念；其次介绍了半导体制造的各种工艺步骤，并探讨了工艺与器件偏差以及分辨率增强技术；然后深入研究了半导体制造过程中的各种制造缺陷及其对电路的影响，并讨论了可靠性问题的物理机制及其影响；最后探讨了在电路实现过程中不同阶段采用DFM和DFR方法所带来的变化。 |
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主题词:
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CMOS电路 电路设计 |
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中图分类法
:
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TN432.02 版次： 5 |
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其它题名:
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可制造性设计 |
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主要责任者:
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昆杜 著 |
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主要责任者:
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斯雷德哈 著 |
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次要责任者:
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潘彪 译 |
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次要责任者:
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康旺 译 |
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次要责任者:
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蒋林君 译 |
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附注:
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集成电路大师级系列 CMP BOOOKS |
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标签:
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相关资源:
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限定所在馆:
限定所在馆藏地点:
限定馆藏状态:
预约：可预约已外借图书，在馆图书不可预约
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